技術名稱

4吋批次式電漿輔助原子層沉積技術

技術分類

半導體製程、電漿輔助原子層沉積技術

技術內容

前驅物傳遞系統、整合電漿之均勻化噴氣模組、批次式原子層沉積腔體與閥門開關控制時序設計。

廠商資格

1. 產業類別：真空設備製造業。
2. 專門技術：PVD、CVD真空腔體設計。
3. 應有機具設備：無。
4. 應有研究或技術人員：機構工程師、製程工程師、電子元件與系統組裝人員。
5. 無片面毀約不良記錄者。

申請研發成果授權之廠商應填妥本院儀科中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本，向儀科中心申請。
其公司證明文件應包括：
1. 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
2. 營業稅或營所稅最新一期之繳款收據聯或公司實施能力文件。

聯絡窗口

卓文浩     03-5779911#641  kesikar@narlabs.org.tw
李靜宜     03-5779911#532  gigilee@narlabs.org.tw