技術名稱
三維封裝檢測用多焦面同步擷取及整合技術
技術分類
半導體曝光、三維封裝、光學控制技術、多波長焦深控制
技術內容
結合多波長光源模組與光學控制技術,以等光源方式進行圓心環形式排列,並以選擇性開啟之方式,透過光學控制模組中之拋物面與雙曲面光學元件改變光現之光路,並集中於物體表面,由此方式可進行三維結構之深度偵測與表面形貌檢測,並用來進行三維結構製程輔助技術,達到三維封裝多焦深調控之目標。
廠商資格
1. 產業業別:光學儀器製造業、光電儀器製造業、精密儀器零售業。
2. 專門技術:光電儀器設計、電子電路設計。
3. 應有機具設備:無。
4. 應有研究或技術人員:電子工程師、電子元件與系統組裝人員。
5. 無片面毀約不良記錄者。
申請研發成果授權之廠商應填妥本院儀科中心「研發成果申請表及廠商開發計畫書」並檢附公司相關證明文件影本,向儀科中心申請。其公司證明文件應包括:
1. 公司基本登記資料或公司登記事項卡。
2. 營業稅或營所稅最新一期之繳款收據聯或公司實施能力文件。
聯絡窗口
蔡心怡 03-5779911#634 kellytsai@narlabs.org.tw
李靜宜 03-5779911#532 gigilee@narlabs.org.tw