國內半導體廠用於微影製程的曝光機主要來自於荷蘭及日本的儀器大廠，後續維修服務也完全倚靠原廠，價格昂貴。國研院儀科中心擁有高階光機電技術，據此開發出曝光機中的關鍵零組件光束整形鏡片與石英導光柱、晶圓夾持模組 (Wafer Chuck) 與晶圓移動機構頂針 (Elevation Pin, E-Pin)、i-line 濾光片與偏振分光鏡，以及高倍數微型雷射擴束器，這些關鍵零組件均在此次展覽中展出。有了這些關鍵零組件，國內儀器設備廠商即可提供半導體廠曝光機維修服務，不但可以提升國內設備廠商技水準、促進就業機會，亦可協助國內半導體廠降低成本。

(上圖)國研院儀科中心研發之晶圓夾持模組。

國家實驗研究院儀器科技研究中心今年首度於台灣半導體產業年度盛事「SEMICON Taiwan國際半導體展」亮相，展現「精密光機設計」、「精密光學元件製作」、「精密光學鍍膜」與「精密光機組裝與檢測」等核心技術研發能量。

「SEMICON Taiwan國際半導體展」匯集全世界頂尖的半導體科技廠商參與，連結了IC設計、製造、設備材料等環節，每年均吸引數萬人參觀。今年的展覽從今(9/3)日起在台北南港展覽館一連展出三天。

儀科中心成立已屆40年，光機電研究能量由最早的顯微鏡，躍升到福爾摩沙衛星對地光學取像鏡頭模組，現更進一步將太空光學技術商用化，運用於半導體製程設備。儀科中心的目標是成為國內半導體產業設備與醫學光電領域的技術領航者，在近幾年內，會將半導體級之曝光機鏡頭模組、曝光機置換鏡片、原子層沉積 (ALD) 薄膜製程設備陸續導入產業供應鏈。

(上圖) 國研院儀科中心研發之偏振分光片。